Этапы изготовления фотокристалла

Для начала производства необходим следующий комплект оборудования и материалов: 

• Компьютер с любым графическим редактором
• Струйный принтер
• Заготовки кристаллов
• Пленка для печати

Специальная пленка представляет собой подложку толщиной около 200 мкм с тонким прозрачным трансферным печатным слоем, обеспечивающим высокое качество струйной печати, идеальную прозрачность, механическую прочность кристалла и химическую стойкость по отношению к УФ-клею.  

• Уф-клей

В процессе производства фотокристалла УФ-клей обеспечивает прочное скрепление частей кристалла. Клей должен быть оптически прозрачным, не приводить к замутнению изображения, не повреждать слой с изображением, обладать оптимальной вязкостью и временем отверждения, для того чтобы процесс изготовления был технологичным.

• Установка для отверждения клея (уф-лампа)

Является ключевым оборудованием в процессе изготовления фотокристаллов.

Факторами, влияющими на интенсивность облучения клея, являются мощность лампы, расстояние между лампой и кристаллом, тип рефлектора и толщина стекла. Важным фактором, особенно при изготовлении кристаллов с изображением большой площади является равномерность облучения.

Производство фотокристаллов состоит из нескольких достаточно простых этапов:

1. Изображение редактируется в любой графической программе и печатается на специальной  пленке на обычном струйном принтере.
2. На пленку с напечатанным изображением наносится УФ-клей и кладется основа кристалла. При этом клей должен равномерно распределиться по всей поверхности изображения.
3. Стекло с пленкой помещается под УФ-лампу на 2-3 минуты.
4. Полученную заготовку необходимо очистить от остатков клея, снять подложку и обрезать пленку по периметру кристалла.
5. На вторую часть основы кристалла наноситься УФ-клей и также равномерно распределяется по всей поверхности.
6. Необходимо точно совместить края двух основ и поместить их под УФ-лампу на 3-5 минут.
7. Полученный кристалл необходимо очистить от остатков клея.